特許
J-GLOBAL ID：200903036740537172
スピン偏極走査型トンネル装置および金属界面の評価方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-171708
公開番号（公開出願番号）：特開平8-136556
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【目的】 試料表面や異種界面の様々なスピン配列を、試料のスピン状態を変化させることなく、安定にかつ高分解能で測定もしくは加工することを可能にしたスピン偏極走査型トンネル装置を提供する。【構成】 試料12とその表面と対向配置される探針11との間の間隙長および/またはトンネル電流を一定に保持し、探針11と試料12とを試料表面に沿う方向に相対的に移動させ、探針11で試料12の表面上を走査させるスピン偏極走査型トンネル装置において、探針11として先端直径が10nm以上の強磁性体、反強磁性体または半導体からなる探針、あるいは反強磁性体からなり、かつ先端面が略同一方向に揃ったスピンを有する結晶面により構成された探針を用いる。
請求項（抜粋）：
試料の表面と対向配置される探針と、前記探針と試料との間の間隙長およびトンネル電流の少なくとも一方を一定に保持する手段と、前記探針と試料とを前記試料の表面に沿う方向に相対的に移動させて前記探針で前記試料の表面上を走査させる走査手段とを具備するスピン偏極走査型トンネル装置であって、前記探針は強磁性体、反強磁性体および半導体の少なくとも1種からなり、かつ前記探針の先端直径が10nm以上であることを特徴とするスピン偏極走査型トンネル装置。
IPC (4件)：
G01N 37/00
, G01B 7/34
, H01J 37/28
, H01L 21/66
