特許
J-GLOBAL ID:200903036742845559

非線形光学薄膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 研二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-184034
公開番号(公開出願番号):特開2001-013535
出願日: 1999年06月29日
公開日(公表日): 2001年01月19日
要約:
【要約】【課題】 非線形光学薄膜において、屈折率を面内方向で連続的に変化させる。【解決手段】 ガラス基板12上にSiO2-GeO2薄膜16を蒸着で形成する。蒸着の工程において、イオン源18からイオンを薄膜16に照射する。シャッタ20を面内方向に移動させることによりイオン注入エネルギを変化させ、これにより薄膜16の屈折率を連続的に変化させる。
請求項(抜粋):
非線形光学薄膜の製造方法であって、前記非線形光学薄膜を蒸着で作成する際に、前記薄膜の面内方向におけるエネルギ量を異ならせて前記薄膜にビームを照射することを特徴とする非線形光学薄膜の製造方法。
IPC (2件):
G02F 1/35 505 ,  C23C 14/48
FI (2件):
G02F 1/35 505 ,  C23C 14/48 D
Fターム (9件):
2K002AB12 ,  2K002CA02 ,  2K002FA20 ,  2K002FA27 ,  2K002HA13 ,  2K002HA20 ,  4K029BA50 ,  4K029BC07 ,  4K029CA09

前のページに戻る