特許
J-GLOBAL ID：200903036770620520
半導体基板表面不純物回収装置およびその使用方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-294723
公開番号（公開出願番号）：特開平5-283498
出願日： 1991年11月12日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【目的】 液滴が移送する際に落下したり、不純物が半導体基板の表面に再付着して回収率が低下したりすることなく、陰イオンや分子状不純物も回収できる半導体表面不純物回収装置を提供する。【構成】 薬品の蒸気を導入する密閉容器3と、密閉容器3内で半導体基板1を保持する回転自在の半導体基板保持具7と、純水を密閉容器3内の半導体基板1側に供給する供給用マイクロシリンジ10と、供給用マイクロシリンジ10に接続されて半導体基板1上に純水を滴下し、滴下した純水を半導体基板1との間で保持する液滴保持具11と、液滴保持具11を移動させて液滴を半導体基板1上で走査させる走査手段12と、半導体基板保持具7の外周部に配設され、半導体基板1上を走査した液滴を受容する液滴受容器13とを備えたもの。
請求項（抜粋）：
薬品の蒸気を導入する密閉容器と、この密閉容器内で半導体基板を保持する半導体基板保持手段と、前記半導体基板保持手段を回転させる回転手段と、純水を配管を通して密閉容器内の半導体基板側に供給する供給用マイクロシリンジと、供給用マイクロシリンジに接続されて前記密閉容器内の半導体基板上に清浄化した純水を滴下し、滴下した純水を半導体基板との間で保持する液滴保持手段と、液滴保持手段を移動させて液滴を半導体基板上で走査させる走査手段と、半導体基板保持手段の外周部に配設され、半導体基板上を走査した液滴を受容する液滴受容器とを備えた半導体基板表面不純物回収装置。
IPC (4件)：
H01L 21/66
, G01N 1/02
, G01N 1/22
, H01L 21/304 341
