特許

J-GLOBAL ID：200903036772583192

低熱膨張性シリカ含浸セラミックス大平板及びその製造方法

発明者： 山本 光雄 ,  加山 正秋 ,  坂本 晃史 ,  小高 康二郎 ,  吉本 俊裕
出願人/特許権者： ニチアス株式会社
代理人 (1件)： 赤塚 賢次 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-082950
公開番号（公開出願番号）：特開2000-272984
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】 低熱膨張性で、曲げ強度が適度な範囲になり、さらに、耐摩耗性、吸水性及び熱伝導性にも優れるため、マッフル焼成炉の耐火材に要求される複雑な形状の切断、穴開け、あいじゃくり等の機械加工が可能であると共に、焼成炉の大型棚板等にも使用できる低熱膨張性セラミックス大平板を提供すること。【解決手段】 焼結助剤として添加される金属酸化物1〜10重量%及びシリカ5〜20重量%を含有するβ-スポジュメン質又はβ-ユークリプタイト質からなり、内部に直径0.8〜90μm 、長さ8〜90000μm の空洞が不定方向に点在して形成されると共に、少なくとも該空洞の内壁がシリカに被覆される低熱膨張性シリカ含浸セラミックス大平板。

請求項（抜粋）：

焼結助剤として添加される金属酸化物1〜10重量%及びシリカ5〜20重量%を含有するβ-スポジュメン質又はβ-ユークリプタイト質からなり、内部に直径0.8〜90μm 、長さ8〜90000μm の空洞が不定方向に点在して形成されると共に、少なくとも該空洞の内壁がシリカに被覆されることを特徴とする低熱膨張性シリカ含浸セラミックス大平板。

IPC (3件)：

C04B 41/85 ,  C04B 35/64 ,  C04B 38/06

FI (3件)：

C04B 41/85 B ,  C04B 38/06 D ,  C04B 35/64 J