特許
J-GLOBAL ID：200903036794562598
セラミック被覆の低温形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平2-800027
公開番号（公開出願番号）：特開平7-025606
出願日： 1990年04月17日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：
【要約】 電子出願以前の出願であるので要約・選択図及び出願人の識別番号は存在しない。
請求項（抜粋）：
基板上にセラミックまたはセラミック状の被覆を形成する方法であって、(a)上記基板を溶剤内に稀釈された水素シルセスキオキサン(hydrogen silsesquioxane)樹脂からなる溶液で被覆し、(b)上記溶剤を蒸発させ、これによって上記基板にプレセラミック被覆を沈積させ、且つ(c)オゾンの存在下で約40乃至400°Cの間の温度に加熱することにより上記プレセラミック被覆を二酸化ケイ素含有セラミックにセラミック化する段階から構成されることを特徴とする方法。
IPC (3件)：
C01B 33/12
, C01B 33/20
, H05K 1/03
