特許
J-GLOBAL ID：200903036808257033
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-200448
公開番号（公開出願番号）：特開平6-021003
出願日： 1992年07月03日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】 モニター用窓部からの電磁波の漏洩を効果的に防止することができるプラズマ処理装置を提供すること。【構成】 プロセスチャンバー10の側面部にはモニター用窓孔38が形成され、プラズマ発光モニター用のモニター用窓部40が設けられる。モニター用窓部40はプラズマ発光を透過できる透光性部材42及び電磁波シールド50より構成される。電磁波シールド50は導電性材料により多孔状又はメッシュ状に形成され、接続端子52、圧着端子54により、接地されたプロセスチャンバー10に接続される。従って、プラズマ発光を透過させるとともに、プロセスチャンバー10内で発生した電磁波が外部に漏洩することを有効に防止できる。また、電磁波シールド50の接続端子56には、DC電源58が接続され、これにより通電可能となっているため、ヒーターとして兼用することができ、これにより、透光性部材42の内側面41への膜付着を有効に防止できる。
請求項（抜粋）：
処理室に処理ガスを導入し、プラズマを生成して被処理体を処理するプラズマ処理装置において、前記処理室に設けられ、前記プラズマ発光を外部に透過させてモニターするモニター用窓部と、前記モニター用窓部に設けられた、導電性材料により多孔状又はメッシュ状に形成することによりモニター用窓部より漏洩する電磁波をシールドする電磁波シールドと、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
引用特許：
前のページに戻る
