特許

J-GLOBAL ID：200903036811008770

真空下水道システム

発明者： トミイ ナスキイ
出願人/特許権者： エバク インターナショナル オサケ ユキチュア
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-237257
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088888
出願日： 2001年08月06日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】 放出器の起こす泡立ちによる構成要素への影響を低減する真空下水道システムの設備を提供する。【解決手段】 下水道源(24)と下水道配管(28)とを有する下水道ネットワーク(2)を備え、下水道配管(28)は、下水道源から来る下水を受けるためのものであり、液体で駆動される放出器装置(1)をさらに備え、放出器装置(1)は、真空下水道システムのための真空源として機能する。放出器装置の機能の効率を改善し、確実するために、放出器装置(1)は、下水収集プロセスによって形成される二次回路から分離された、一次回路を形成する。

請求項（抜粋）：

真空下水道システムにおける設備であって、下水道源(24)と下水道配管(28、128、228、328)とを有する下水道ネットワーク(2)を備え、前記下水道配管(28、128、228、328)は、前記下水道源から来る下水を受けるためのものであり、設備が、前記真空下水道システムのための真空源として機能する液体駆動される放出器装置(1、101、201、301)をさらに備え、該放出器装置(1、101、201、301)が一次回路を形成し、下水収集プロセスが二次回路を形成し、前記一次回路および前記二次回路が互いに分離されることを特徴とする、真空下水道システムにおける設備。

IPC (3件)：

E03F 3/02 ,  E03F 5/22 ,  E03F 7/00

FI (3件)：

E03F 3/02 ,  E03F 5/22 ,  E03F 7/00

Fターム (3件)：

2D063AA07 ,  2D063DC08 ,  2D063EA00