特許

J-GLOBAL ID：200903036813438682

紫外線硬化性樹脂及び紫外線硬化性樹脂組成物並びにフォトソルダーレジストインク

発明者： 丸澤 尚 ,  橋本 壯一
出願人/特許権者： 互応化学工業株式会社
代理人 (1件)： 西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-087036
公開番号（公開出願番号）：特開平11-279243
出願日： 1998年03月31日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 指触乾燥性、解像性、感度及び半田耐熱性等に優れ、また優れた基板密着性、耐薬品性、耐電蝕性及び電気特性並びに特に優れた半田耐熱性及び耐金めっき性等を示すソルダーレジストを基板上に形成することができる希アルカリ水溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクを調製するための紫外線硬化性樹脂を提供する。【解決手段】 ケイ素原子を有するエチレン性不飽和単量体を含む不飽和単量体成分の共重合体から生成される。1分子中に2個以上のエチレン性不飽和基とカルボキシル基とケイ素原子を有する紫外線硬化性樹脂に関する。ケイ素原子を有するエチレン性不飽和単量体とエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体とを含む不飽和単量体成分の共重合体に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体と飽和又は不飽和の多塩基酸無水物とを反応させる。

請求項（抜粋）：

ケイ素原子を有するエチレン性不飽和単量体を含む不飽和単量体成分の共重合体から生成され、1分子中に2個以上のエチレン性不飽和基とカルボキシル基とケイ素原子を有して成る紫外線硬化性樹脂であって、ケイ素原子を有するエチレン性不飽和単量体とエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体とを含む不飽和単量体成分の共重合体に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体と飽和又は不飽和の多塩基酸無水物とを反応させて成ることを特徴とする紫外線硬化性樹脂。

IPC (9件)：

C08F299/00 ,  C08F 2/48 ,  C08F290/04 ,  C09D 11/10 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/038 503 ,  G03F 7/075 511 ,  H05K 3/28 ,  C09D 4/00

FI (9件)：

C08F299/00 ,  C08F 2/48 ,  C08F290/04 ,  C09D 11/10 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/038 503 ,  G03F 7/075 511 ,  H05K 3/28 D ,  C09D 4/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-033583   出願人：コニカ株式会社
• 電子写真用現像剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-086444   出願人：株式会社リコー