特許
J-GLOBAL ID:200903036816421667

多層膜反射鏡及び露光装置ならびに集積回路の製造方法。

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-287767
公開番号(公開出願番号):特開2001-110709
出願日: 1999年10月08日
公開日(公表日): 2001年04月20日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、現在の非球面の加工計測技術レベルで高い解像力を有し、更に微細なパターンを基板上に形成すること露光装置及び集積回路の製造方法を得ることを目的とする。【解決手段】 本発明では、マスク1に形成されたパターンを露光光で照明し、感光層が塗布された基板上2に投影光学系3によりパターンの像を形成する露光装置であって、露光光の波長が20nm以上50nm以下であり、かつ投影光学系は複数の非球面形状を有する反射鏡からなり、解像度71nm以下であることとした。
請求項(抜粋):
マスクに形成されたパターンを露光光で照明し、感光層が塗布された基板上に投影光学系によって前記パターンの像を形成する露光装置であって、前記露光光の波長が20nm以上50nm以下であり、かつ前記投影光学系は少なくとも複数の非球面形状を有する反射鏡からなり、解像度71nm以下であることを特徴とする露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G02B 17/08 ,  G03F 7/20 503
FI (4件):
G02B 17/08 A ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 531 E
Fターム (10件):
2H087KA21 ,  2H087TA02 ,  2H087TA06 ,  2H097AA02 ,  2H097BA02 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GB09 ,  5F046GC03 ,  5F046GD10

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