特許

J-GLOBAL ID：200903036816493285

高耐薬防曇性光学素子

発明者： 山崎 大 ,  松尾 大介
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-004069
公開番号（公開出願番号）：特開平8-194101
出願日： 1995年01月13日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】 耐薬品性と防曇性を有した光学素子を製造する。【構成】 ポリマー成分を98.0重量%以上含有し、その内、40.0重量%以上70.0重量%以下が250,000以上500,000以下の重量平均分子量である透明ポリスチレン樹脂に1.0重量%〜10.0重量%のノニオン系界面活性剤を添加したポリマーを用い、射出成形により光学素子を成形する。界面活性剤により光学素子の表面が親水性となり防曇性となる。ポリマーが高重合度のため、耐薬品性を有する。

請求項（抜粋）：

ポリマー成分を98.0重量%以上含有し、その内、40.0重量%以上70.0重量%以下が250,000以上500,000以下の重量平均分子量である透明ポリスチレン樹脂に1.0重量%〜10.0重量%のノニオン系界面活性剤を添加したポリマーを用い、射出成形により成形したことを特徴とする高耐薬防曇性光学素子。

IPC (3件)：

G02B 1/04 ,  C08L 25/06 KFX ,  G02C 7/02