特許

J-GLOBAL ID：200903036832774847

電解めっき膜形成微細物の製造方法およびそれに用いる製造装置

発明者： 吉見 武 ,  槌谷 与志明 ,  大木 孝
出願人/特許権者： 日東電工株式会社 ,  日鉱商事株式会社
代理人 (3件)： 西藤 征彦 ,  井▲崎▼ 愛佳 ,  西藤 優子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-142418
公開番号（公開出願番号）：特開2008-297574
出願日： 2007年05月29日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：

【課題】導電性微細物に効率よく電解めっき膜を形成することができる、電解めっき膜形成微細物の製造方法およびそれに用いる製造装置を提供する。【解決手段】電解めっき液5に導電性微細物6を分散させた混合液を循環流路に流して循環させるとともに、その循環流路の一部に上記混合液の流れる方向に沿って設けられた、対向する陽極31と陰極32の間に電圧を印加することにより、上記導電性微細物6が上記陰極32に接触した際に、その導電性微細物6に電解めっき膜が形成されるようにした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

電解めっき液に導電性微細物を分散させた混合液を循環流路に流して循環させるとともに、その循環流路の一部に上記混合液の流れる方向に沿って設けられた、対向する陽極と陰極の間に電圧を印加することにより、上記導電性微細物が上記陰極に接触した際に、その導電性微細物に電解めっき膜が形成されるようにしたことを特徴とする、電解めっき膜形成微細物の製造方法。

IPC (5件)：

C25D 7/00 ,  C25D 5/08 ,  C25D 17/16 ,  C25D 21/00 ,  C25D 21/10

FI (5件)：

C25D7/00 R ,  C25D5/08 ,  C25D17/16 B ,  C25D21/00 J ,  C25D21/10 301

Fターム (19件)：

4K024AA09 ,  4K024AA11 ,  4K024AA17 ,  4K024AA21 ,  4K024BA01 ,  4K024BA12 ,  4K024BA15 ,  4K024BB09 ,  4K024BC08 ,  4K024CA05 ,  4K024CA10 ,  4K024CB03 ,  4K024CB08 ,  4K024CB12 ,  4K024CB13 ,  4K024CB15 ,  4K024CB16 ,  4K024DA10 ,  4K024GA16

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開平1-272792号公報(第5図)