特許

J-GLOBAL ID：200903036844233337

超高速電解脱スケール方法

発明者： 清 宮 紘 一
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  清宮 紘一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-231730
公開番号（公開出願番号）：特開2002-047600
出願日： 2000年07月31日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：

【要約】【課題】 ステンレス鋼を含む鉄系金属や、アルミニウム系金属、ニッケル系金属の表面の酸化皮膜を超高速で簡易に除去する脱スケール方法を提供する。【解決手段】 工作物と電極との間に電解液を流しながら、20A/cm2 以上の電流密度で、0.5秒以内の脱スケールに適した時間だけ工作物に電解電流を流してアノード電解を行う。これにより、超高速で電解脱スケールを行うことができる。

請求項（抜粋）：

ステンレス鋼を含む鉄系金属、アルミニウム系金属、ニッケル系金属の表面の酸化皮膜を除去する方法であって、工作物と電極との間に電解液を流しながら、20A/cm2 以上の電流密度で、0.5秒以内の脱スケールに適した時間だけ工作物に電解電流を流してアノード電解を行う、ことを特徴とする超高速電解脱スケール方法。

IPC (2件)：

C25F 1/06 ,  C25F 1/04

FI (2件)：

C25F 1/06 A ,  C25F 1/04

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平1-136999
  
• 鋼帯の連続洗浄方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-098312   出願人：新日本製鐵株式会社
• 特開平3-287800