特許
J-GLOBAL ID：200903036856521940
屈折率分布型光学素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
米澤 明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-085030
公開番号（公開出願番号）：特開平9-278452
出願日： 1996年04月08日
公開日（公表日）： 1997年10月28日
要約：
【要約】【課題】 ゾルゲル法によって作製したゲルに正確な濃度分布を形成する。【解決手段】 ゾルゲル法により作製したウェットゲルを処理液に浸漬して濃度分布を付与する工程、および形成した金属濃度分布を固定する工程を有する屈折率分布型光学素子の作製する際に、分布固定処理液を内包したマイクロカプセルをゾル中に分散させてゲル化してウェットゲルの内部に、マイクロカプセルを導入し、マイクロカプセル中から分布固定処理液を放出することにより、ウェットゲル中の金属濃度分布を固定する屈折率分布型光学素子の製造方法。
請求項（抜粋）：
ゾルゲル法により作製したウェットゲルを処理液に浸漬して濃度分布を付与する工程、および形成した金属濃度分布を固定する工程を有する屈折率分布型光学素子の作製方法において、ウェットゲルの内部に、分布固定処理液を内包したマイクロカプセルを導入し、マイクロカプセル内の分布固定処理液を放出することにより、ウェットゲル中の金属濃度分布を固定することを特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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