シクロヘキサンジメタノールの製造法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-000801
公開番号（公開出願番号）：特開平7-196558
出願日： 1994年01月10日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：

【要約】【目的】ジアルキルシクロヘキサンジカルボキシレートから工業的有利にシクロヘキサンジメタノールを製造する。【構成】蒸気状のジアルキルシクロヘキサンジカルボキシレートを還元マンガン促進銅触媒の存在下水素ガスと接触させる。

請求項（抜粋）：

ジアルキルシクロヘキサンジカルボキシレートを水素化することによりシクロヘキサンジメタノールを製造するにあたり、(a)還元マンガン促進化銅触媒を有する水素化域を設け、(b)ジアルキルシクロヘキサンジカルボキシレートと約0.1〜15重量%の酸性物質を含む水素化可能物質の蒸気供給流であって、知られた水素含有気体:ジアルキルシクロヘキサンジカルボキシレート比を有するものを、約150〜350°Cの範囲にあり、かつ該供給流の露点よりも高い供給温度と、約150〜2000psia(約10.34〜137.90バール)の範囲にある供給圧力において形成せしめ、(c)この蒸気供給流を前記水素化域へ供給し、(d)この水素化域を、反応混合物がその露点以上で水素化触媒と接触状態を保つのに有効な水素化条件に維持し、(e)蒸気供給流をこの水素化域を通過させ、(f)上記水素化域から、シクロヘキサンジメタノールを含む生成物流を回収することを特徴とする方法。

IPC (4件)：

C07C 31/27 , B01J 23/889 , C07C 27/02 , C07B 61/00 300

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平2-042035
特表平4-503474
特表平2-504363

審査官引用 (3件)

特開平2-042035
特表平4-503474
特表平2-504363

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