特許

J-GLOBAL ID：200903036866525285

オゾン注入方法

発明者： 石田 宏司 ,  鳥山 明夫 ,  南 宏和 ,  上坂 太一
出願人/特許権者： 株式会社クボタ
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-010361
公開番号（公開出願番号）：特開平6-218383
出願日： 1993年01月26日
公開日（公表日）： 1994年08月09日
要約：

【要約】【構成】 各反応領域1bにおけるオゾンガスの注入率を、当該反応領域1bにおける被処理水の性状に応じて固有の適値のオゾン吸収効率を維持するように設定し、各反応領域で吸収するオゾン吸収量の総和量が被処理水中の初期有機物濃度を所定有機物濃度に低減するために費やす消費オゾン総量を賄えるように、各反応領域1bにおけるオゾンガスの注入を多段的に行う。【効果】 各反応領域1bにおいてオゾン浪費物質によって消費されるオゾンの消費率を最小に抑制して有機物除去効率を最大にすることができ、連続反応槽1の全体において浪費するオゾン量の抑制を図るとともに、吸収したオゾンにより効率良く有機物の分解を行うことができる。

請求項（抜粋）：

複数段の反応領域を形成する連続反応槽において、各反応領域ごとに被処理水にオゾンガスを注入して、オゾンによる有機物の分解により被処理水中の初期有機物濃度を所定有機物濃度に低減するに際し、各反応領域におけるオゾンガスの注入率を、当該反応領域における被処理水の性状に応じて固有の適値のオゾン吸収効率を維持するように設定し、各反応領域で吸収するオゾン吸収量の総和量が被処理水中の初期有機物濃度を所定有機物濃度に低減するために費やす消費オゾン総量を賄えるように、各反応領域におけるオゾンガスの注入を多段的に行うことを特徴とするオゾン注入方法。

IPC (3件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C01B 13/10 ZAB ,  C02F 1/50

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-225895
  
• 特開昭51-141468
  
• 特開平4-225895
  
• 特開昭51-141468