特許

J-GLOBAL ID：200903036905135635

マスクの支持機構及びこれを用いた露光装置

発明者： 徳田 憲昭
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 飯塚 雄二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-148585
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306832
出願日： 1996年05月20日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】 マスクの厚さを増すことなく、マスクの自重による撓みを矯正できるマスクの支持機構を提供すること。【解決手段】 マスク(12)を下方から支える支持部材(11)と、この支持部材(11)の支持点(46a,46b,46c,46d)の外側において、マスク(12)に対して上方から所定圧の力を加える押圧手段(50)とを備える。

請求項（抜粋）：

所定パターンが形成された平板状のマスクを水平に支持する支持機構において、前記マスクを下方から支える支持部材と;前記支持部材の支持点の外側において、前記マスクに対して上方から所定圧の力を加える押圧手段とを備えたことを特徴とするマスクの支持機構。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 503 D ,  G03F 1/14 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 518