撮影装置の製造方法及び撮影装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田村敬二郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-288588
公開番号（公開出願番号）：特開2003-101872
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】撮像素子に欠陥画素があった場合でも、適正な測光用データを得ることができる撮影装置の製造方法及び撮影装置を提供する。【解決手段】被写体を画像データに変換するために用いられる第1群の画素50aと、測光を行うために用いられる第2群の画素50bとを設定する画素群設定工程において、欠陥画素がある場合には、欠陥画素を第2群の画素50bに設定しないようにしたので、撮影の際に得られる前記第2群の画素より得られる測光用データは、信頼性が高いデータとなるため、それにより適正な露光を得ることができる。

請求項（抜粋）：

複数の画素を2次元的に配置した撮像素子を有し、前記撮像素子が、被写体を画像データに変換するために用いられる第1群の画素と、測光を行うために用いられる第2群の画素とにより構成されてなる撮影装置の製造方法であって、前記複数画素の中に欠陥画素が含まれていないかを判定し、欠陥画素が含まれている場合にはその位置に関する情報を記憶する工程と、被写体を画像データに変換するために用いられる第1群の画素と、測光を行うために用いられる第2群の画素とを設定する画素群設定工程とを備え、画素群設定工程において、欠陥画素がある場合には、欠陥画素を第2群の画素に設定しないようにしたことを特徴とする撮影装置の製造方法。

IPC (5件)：

H04N 5/235 , H01L 27/146 , H04N 5/225 , H04N 5/335 , H04N101:00

FI (5件)：

H04N 5/235 , H04N 5/225 D , H04N 5/335 P , H04N101:00 , H01L 27/14 A

Fターム (18件)：

4M118AA07 , 4M118AB01 , 4M118BA14 , 4M118CA02 , 4M118DD09 , 4M118FA06 , 5C022AA13 , 5C022AB06 , 5C022AC42 , 5C022AC69 , 5C024BX01 , 5C024CX23 , 5C024CX24 , 5C024CY47 , 5C024EX11 , 5C024GX21 , 5C024GY31 , 5C024GZ42

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