特許

J-GLOBAL ID：200903036932642891

マスク及びそれを用いた露光方法

発明者： 川島 美代子
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-066539
公開番号（公開出願番号）：特開2000-267257
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】 周期パターン露光と通常パターン露光の2重露光によって高解像度のパターン線幅が得られるマスク及びそれを用いた露光方法を得ること。【解決手段】 多重露光により感光基板上にパターンを転写するためのマスクであって、該マスクはピッチが異なりパターン線幅が同じの周期パターンを含み複数の周期パターンを有していること。

請求項（抜粋）：

多重露光により感光基板上にパターンを転写するためのマスクであって、該マスクはピッチが異なりパターン線幅が同じの周期パターンを含む複数の周期パターンを有していることを特徴とするマスク。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00

FI (6件)：

G03F 1/08 D ,  G03F 7/20 502 ,  H05K 3/00 E ,  H01L 21/30 502 C ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 515 F

Fターム (21件)：

2H095BA01 ,  2H095BA03 ,  2H095BA07 ,  2H095BA12 ,  2H095BB02 ,  2H095BB08 ,  2H095BB12 ,  2H097AA03 ,  2H097AB07 ,  2H097BB10 ,  2H097CA13 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  2H097LA20 ,  5F046AA13 ,  5F046AA25 ,  5F046BA08 ,  5F046CB17 ,  5F046CB27 ,  5F046DB08