特許
J-GLOBAL ID：200903036936761348
ケイ素系高分子及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-093831
公開番号（公開出願番号）：特開平6-287308
出願日： 1993年03月30日
公開日（公表日）： 1994年10月11日
要約：
【要約】【構成】1分子中に2つ以上のSiH結合を有する化合物と1分子中に2つ以上のアルケニルシリル基を有する化合物とを反応させて得られる、主鎖にシル-パラ-フェニレンユニットを有することを特徴とする分子量5000以上の耐熱性ケイ素系高分子及びその製造方法。【効果】耐熱性軽量構造材料として用いることができる。
請求項（抜粋）：
(A)1分子中に少なくとも2つ以上のSiH結合を有するケイ素化合物、(B)1分子中に少なくとも2つ以上のアルケニルシリル基を有するケイ素化合物、の両成分の内、少なくとも1成分がシル-パラ-フェニレンユニットを有し、この(A)成分と(B)成分とのヒドロシリル化反応によって合成される、主鎖にシル-パラ-フェニレンユニットを有することを特徴とする数平均分子量5000以上の耐熱性ケイ素系高分子。
IPC (2件)：
C08G 77/52 NUM
, C07F 7/08
