特許
J-GLOBAL ID：200903036938062919
リファレンス装置およびその製造方法、ならびにそれを利用したベリファイ方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 和音
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-307207
公開番号（公開出願番号）：特開平9-181279
出願日： 1995年11月27日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：
【要約】【課題】回路面積の増大等の問題を生じさせることなくデバイスの多様化に対応することができるリファレンス装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は半導体装置の電流または電圧を判定するためのリファレンス装置2を提供するものである。このリファレンス装置2は、しきい値が異なる複数のリファレンスセル5,6,7と、これらのうちの一つを選択する選択回路4とを備えている。例えば、このリファレンス装置2に流れる電流と、半導体セル1に流れる電流とをセンスアンプ3により比較することにより半導体装置の電流を判定する。
請求項（抜粋）：
半導体装置の電流または電圧を判定するためのリファレンス装置であって、しきい値が異なる複数のリファレンスセルと、これらのうちの一つを選択する選択回路とを備えていることを特徴とするリファレンス装置。
IPC (5件)：
H01L 27/115
, G11C 16/06
, H01L 21/8247
, H01L 29/788
, H01L 29/792
H01L 27/10 434
, G11C 17/00 520 C
, H01L 29/78 371
