特許
J-GLOBAL ID：200903036944874372
光伝導素子及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
工藤 実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-060643
公開番号（公開出願番号）：特開平11-243217
出願日： 1998年02月25日
公開日（公表日）： 1999年09月07日
要約：
【要約】【課題】 複雑な加工法を用いなくても製作でき、且つ、より高速で動作することができる光伝導素子及びその加工方法を提供する。【解決手段】 電極3の間にあるダイヤモンド層2の平均粒径を電極間ギャップ6より小さくする。これにより電極間ギャップには、結晶粒界が存在するようになる。ギャップ6間のダイヤモンド層2に励起光5を入射するとダイヤモンド層2内に光キャリアとして電子と正孔が発生し、それぞれはバイアスされた対向する電極3に向かって移動する。このとき電子と正孔はダイヤモンドの結晶粒界で再結合を起こすため光キャリアの寿命を短くすることができ、高速動作が可能となる。電極3の対向している部分はダイヤモンド層2とオーバーコートダイヤモンド層4によって囲まれているので、電極3に高バイアスを印加することが可能となり、高い出力を得ることができる。
請求項（抜粋）：
基板と基板上に成膜した第1ダイヤモンド層と第1ダイヤモンド層上に電極間ギャップを介して対向するように設けられた少なくとも一対以上の電極と、前記電極間ギャップを覆う様に成膜したオーバーコートダイヤモンド層を具備し 前記電極間ギャップには、照射光により発生したキャリアの再結合中心となる結晶粒界が存在するようにダイヤモンドが形成されていることを特徴とする光伝導素子。
引用特許：
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