特許
J-GLOBAL ID：200903036963037961
回転式基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-312682
公開番号（公開出願番号）：特開平8-141479
出願日： 1994年11月21日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：
【要約】【目的】 基板裏面にチャック跡を生じさせないものでありながら、基板の搬入・搬出のために基板を昇降する構成に起因する基板の裏面や端面の汚れ発生を回避する。【構成】 ピン状支持部材と規制部材とによって基板Wの外周縁を保持させて鉛直方向の軸芯周りで回転可能に構成する。また、ピン状支持部材や規制部材を設けた底板9と基板Wとの間に密閉状の空間Sが形成されるように構成し、底板9に貫通穴16を形成し、その貫通穴16を通じて基板昇降ピン17を昇降させ、かつ、貫通穴16に蓋部材18を設け、基板昇降ピン17を上昇するときには貫通穴16を開き、一方、基板昇降ピン17を下降引退させた状態では貫通穴16を閉塞するように蓋部材18を変位させ、基板Wを回転させるときに貫通穴16から空気が流入しないように構成する。
請求項（抜粋）：
基板の外周縁を保持する基板保持部材と、その基板保持部材を鉛直方向の軸芯周りで回転する基板回転手段と、前記基板の裏面に接触して前記基板を前記基板保持部材に保持する保持位置とそれより上方の受け渡し位置とに昇降する基板昇降ピンとを備えた回転式基板処理装置であって、前記基板保持部材を、前記基板を保持した状態で前記基板との間に密閉状の空間を形成するように構成するとともに、前記基板保持部材に前記基板昇降ピンを昇降出退する貫通穴を形成し、前記基板昇降ピンを上昇するときには前記貫通穴を開き、かつ、下降引退させた状態では前記貫通穴を閉塞する蓋部材を設けたことを特徴とする回転式基板処理装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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