レーザフラッシュ法における熱拡散率、ビオー数及び比熱データの解析方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：中前富士男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-234146
公開番号（公開出願番号）：特開平8-075687
出願日： 1994年09月03日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】高精度でかつ効率的に測定試料の熱拡散率、ビオー数及び比熱を決定することのできるレーザフラッシュ法における熱拡散率、ビオー数及び比熱データの解析方法及びその装置を提供する。【構成】測定試料10のビオー数及び熱拡散率の各初期値を設定すると共に、測定試料10に照射するレーザパルス波形を設定し、レーザパルス波形、ビオー数、熱拡散率及び理論最高上昇温度を変数として含む熱伝導方程式から、測定試料10の裏面における理論温度値を求め、理論温度値及び測定試料10の裏面の測定温度値との偏差が小さくなるように数値計算を行いビオー数及び熱拡散率を更新し、偏差が規定値以下になるまで第2工程から第3工程までを繰り返して測定試料10の熱拡散率及びビオー数を決定する方法及びその装置。

請求項（抜粋）：

板状の測定試料の表面側からレーザフラッシュを照射し、裏面側の温度を測定して、前記測定試料の熱拡散率及びビオー数を測定するレーザフラッシュ法における熱拡散率、ビオー数及び比熱データの解析方法であって、前記測定試料のビオー数及び熱拡散率の各初期値を設定すると共に、該測定試料に照射するレーザパルス波形を設定する第1工程と、前記レーザパルス波形、ビオー数、熱拡散率及び理論最高温度値を変数として含む熱伝導方程式から、前記測定試料の裏面における理論温度値を求める第2工程と、前記理論温度値及び前記測定試料の裏面の測定温度値との偏差が小さくなるように数値計算を行い前記ビオー数及び前記熱拡散率を更新する第3工程と、前記偏差が規定値以下になるまで前記第2工程から第3工程までを繰り返して前記測定試料の熱拡散率及びビオー数を決定する第4工程とを有することを特徴とするレーザフラッシュ法における熱拡散率、ビオー数及び比熱データの解析方法。

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭57-157146
特開昭62-263454
特開昭63-159740

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