特許

J-GLOBAL ID：200903036982749026

ヒドロキシフェニルシクロヘキサノン類の製造法

発明者： 糸井 泰
出願人/特許権者： 荒川化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-358658
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002617
出願日： 1999年12月17日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】 簡潔な反応系かつ温和な反応条件下において、ヒドロキシフェニルシクロヘキサノン類を製造する方法を提供すること。【解決手段】 パラジウムを塩基性もしくは中性担体に担持してなる触媒(A)および/または活性を変化させる処理を施したパラジウム担体担持触媒(B)の存在下に、溶媒中でビフェノール類を水素化還元することを特徴とするヒドロキシフェニルシクロヘキサノン類の製造法;前記製造法に用いる、パラジウムを塩基性もしくは中性担体に担持してなる触媒(A);前記製造法に用いる、活性を変化させる処理を施したパラジウム担体担持触媒(B)。

請求項（抜粋）：

パラジウムを塩基性もしくは中性担体に担持してなる触媒(A)および/または活性を変化させる処理を施したパラジウム担体担持触媒(B)の存在下に、溶媒中でビフェノール類を水素化還元することを特徴とするヒドロキシフェニルシクロヘキサノン類の製造法。

IPC (6件)：

C07C 45/29 ,  B01J 23/44 ,  B01J 27/232 ,  C07C 45/62 ,  C07C 49/747 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

C07C 45/29 ,  B01J 23/44 X ,  B01J 27/232 X ,  C07C 45/62 ,  C07C 49/747 B ,  C07B 61/00 300

Fターム (25件)：

4H006AA02 ,  4H006AA05 ,  4H006AC11 ,  4H006AC44 ,  4H006BA02 ,  4H006BA06 ,  4H006BA09 ,  4H006BA14 ,  4H006BA25 ,  4H006BA29 ,  4H006BA32 ,  4H006BA36 ,  4H006BA37 ,  4H006BA51 ,  4H006BA53 ,  4H006BB11 ,  4H006BB14 ,  4H006BB15 ,  4H006BB16 ,  4H006BB25 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BE20 ,  4H039CA62 ,  4H039CB10