特許
J-GLOBAL ID:200903036991009817

極めて純粋なビスフエノールAの製造のための方法、及びそれらの使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小田島 平吉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-112573
公開番号(公開出願番号):特開平7-285902
出願日: 1995年04月14日
公開日(公表日): 1995年10月31日
要約:
【要約】【構成】 詳細に規定された蒸留によってp,p-ビスフェノールAを精製する方法が提供される。【効果】 得られるp,p-ビスフェノールA溶融液は、高度に熱安定性、貯蔵において安定性そして色安定性であり、高沸成分を含まず、そしてもはや何ら表面活性な又は蒸留不可能な金属、塩、酸又はポリマー成分及び硫黄含有成分を含まない。o,p-ビスフェノールA及びフェノールは除去されそして低沸成分は殆ど検出できない。
請求項(抜粋):
(a)BPAの製造のための慣用的なプロセスによって又は少なくとも90%のp,p-ビスフェノールA含量及び10%未満のフェノール含量を有するBPAのフレーク、粉末若しくはペレットを溶融することによって製造されたビスフェノールA溶融液を抽出物として使用しそして蒸留し、(b)この溶融液の蒸留を安定剤の添加なしでそして不活性条件下で実施し、(c)p,p-ビスフェノールAの分解を通しての損失が0.5%未満であるようなやり方で、この蒸留を実施し、(d)この蒸留を220°C〜250°Cの温度で実施し、(f)この蒸留が1〜50mbarの真空下で行われ、(g)この蒸留が2段階で行われ、(h)まず(h,1)高沸成分例えばMol 402、インダン及びトリフェノールを完全に除去し、次に(h,2)金属ダスト、金属イオン並びに痕跡の塩、痕跡の酸、触媒のポリマー状及びオリゴマー状残渣並びにその他の蒸留不可能な比較的高分子量の化合物を完全に除去し、次に(h,3)表面活性化合物を完全に除去し、次に(h,4)低沸成分例えばo,p-BPA、アルキルフェノール、痕跡のフェノール、痕跡のクロマン並びに硫黄含有低沸成分例えばメルカプトプロピオン酸を除去するか又は大幅に減少させ、(h,5)低沸成分、フェノール及び高沸成分を含みそして92%よりも大きいp,p-ビスフェノールA含量を有する濃縮BPA溶融溶液をリサイクルされた流れとしてプロセスに返し、(i)低沸成分を含む濃縮BPA溶融溶液の5%以下及び高沸成分を含む濃縮BPA溶融溶液の10%以下をプロセス中に流し、(j)p,p-BPAと混合された流された生成物中に含まれる低沸及び高沸成分をリサイクルされた流れからプロセスに返し、転位させそして部分的に回収し、(k)蒸留されたp,p-ビスフェノールAを、その他の物質を含まない安定なボトム生成物として慣用的なやり方で後処理することを特徴とする、極めて純粋なビスフェノールAの製造のための方法。
IPC (2件):
C07C 39/16 ,  C07C 37/74
引用特許:
審査官引用 (12件)
  • 特開平1-238550
  • 特開平1-238550
  • 特公昭37-011213
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