特許

J-GLOBAL ID：200903036993902969

移相マスクおよびマスキング方法

発明者： フォーマン・リー
出願人/特許権者： モトローラ・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 本城 雅則 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-241390
公開番号（公開出願番号）：特開平5-197131
出願日： 1992年08月19日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】 移相マスク10,30を作製する方法を提供する。【構成】 マスク・プレート11,31が設けられる。半透明層12,32はマスク・プレート11,31に被着される。次に、半透明層12,32は、所定の形状パターンにパターン化される。半透明層12,32のパターン化は、所定の距離38でマスク・プレート11,31内部まで続けられ、移相マスク10,30を形成する。

請求項（抜粋）：

マスキング・プレート(11);パターン化された半透明層(12’);および前記半透明層(12’)上に重ねられたパターン化された移相層(13’);によって構成されることを特徴とする移相マスク(52)。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W