特許

J-GLOBAL ID：200903037000772492

ネガ型レジスト組成物

発明者： 青合 利明 ,  近藤 俊一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-065598
公開番号（公開出願番号）：特開平11-258801
出願日： 1998年03月16日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】 220nm以下の露光光源の使用時に、良好な感度、解像度を与え、更に十分な耐ドライエッチング性を有し、且つ十分な経時保存安定性を有するネガ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、多環型の脂環式基とヒドロキシ基を有する樹脂、環状イミド化合物を含有するネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)多環型の脂環式基とヒドロキシ基を有する樹脂、及び(C)環状イミド化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/027 ,  C08K 5/3412 ,  C08L 35/00 ,  C08L101/02

FI (6件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/038 504 ,  C08K 5/3412 ,  C08L 35/00 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/30 502 R