特許

J-GLOBAL ID：200903037009097216

多孔質の無機支持体上の非孔質の高分子膜

発明者： マーガレット キャスリーン ファーバー ,  キショー プルショッタム ガッカリー
出願人/特許権者： コーニング インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-069728
公開番号（公開出願番号）：特開平8-103640
出願日： 1995年03月28日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：

【要約】【目的】 多孔質の無機支持体上に、大きな差圧と高処理量に耐える非孔質の高分子膜を形成する方法を提供する。【構成】 ハニカム構造体のような多孔質の無機基質の表面に、溶液を付着させるなどの手段により高分子材料の溶液を塗布する。次に、沈澱剤により、あるいは単に乾燥させることにより、高分子層を沈澱させて、連続的な高分子膜を形成する。高分子材料の一部は多孔質支持体の壁に浸透して、強い密着性を与え、連続的な膜の形成を確保する。強固で連続的な支持体により、高分子の支持体を使用したときより高温においても高分子膜は変形しない。

請求項（抜粋）：

多孔質の無機支持体上に非孔質の高分子ガス分離膜を形成する方法であって、高分子材料を溶媒に溶解して高分子溶液を調製し;該高分子溶液の層を多孔質の無機支持体の表面に塗布し;さらに、該高分子材料の層を沈澱させて支持体上に連続的な非孔質の高分子膜を形成する各工程を含むことを特徴とする方法。

IPC (11件)：

B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/02 ,  B01D 71/12 ,  B01D 71/16 ,  B01D 71/34 ,  B01D 71/56 ,  B01D 71/60 ,  B01D 71/64 ,  B01D 71/68 ,  B01D 71/70 500