特許
J-GLOBAL ID：200903037009297312
基板へのマスク形成方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-286951
公開番号（公開出願番号）：特開2001-110752
出願日： 1999年10月07日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：
【要約】【課題】 フォトプロセスを要しない手段で、比較的短時間の処理で、かつ、作業環境を悪化することなく所望のマスクを基板表面に形成することのできる方法を提供する。【解決手段】 予めパターンニングされたシール14を基板Wの表面に貼付けて基板処理のためのマスクを形成するものである。支持シート13上にパターンニングされたシール14が形成され、そのシール14の上に離型シートが貼られたラミネートシールを用い、離型シートを剥がした後、シール14と支持シート13が一体となった状態で基板Wの表面に貼りつけられる。その後、支持シート13を剥がし取って、基板W表面にシール14だけを残してマスクを形成する。
請求項（抜粋）：
予めパターンニングされたシールを基板表面に貼付けて基板処理のためのマスクを形成することを特徴とする基板へのマスク形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30
, H01L 21/265 M
