特許
J-GLOBAL ID：200903037009892148
メンブレンの製造方法とメンブレンそしてそれに用いるブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-065360
公開番号（公開出願番号）：特開平6-020930
出願日： 1993年03月24日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】メンブレン用の薄膜をバックエッチング液に対する耐性にかかわらず、使用目的に応じて広い選択範囲の中からより適切な材質のものを使用できるようにし、また膜厚も適切な厚さのものを得られるようにするとともに、さらにはメンブレン用の薄膜の製造時の破損の恐れが少ない製造方法とメンブレンとブランクとを提供する。【構成】基材にバックエッチングを施すことによってメンブレンが形成されるメンブレンの製造方法で、停止層によりバックエッチングを停止した後に、該停止層を除去し、また特には、停止層ならびに歪緩和層を設けておき、該停止層によりバックエッチングを停止した後に、該停止層ならびに歪緩和層を除去することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
薄膜が基材上に形成されてあり、該基材にバックエッチングを施すことによってメンブレンが形成されるメンブレンの製造方法において、停止層によりバックエッチングを停止した後に、該停止層を除去することを特徴とするメンブレンの製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/16
, H01L 21/302
