特許

J-GLOBAL ID：200903037013722303

露光装置及び光学装置、デバイス製造方法

発明者： 柴崎 祐一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-031504
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234276
出願日： 2002年02月07日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：

【要約】【課題】 投影光学系に温度分布が生じるのを簡易な構成で抑えることができ、精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置EXは、マスクMと基板Pとを同期移動してマスクMのパターンPAを投影光学系PLを介して基板P上に転写する走査型露光装置である。この走査型露光装置EXは、投影光学系PLを構成する投影レンズEを保持する鏡筒Kと、鏡筒Kのフランジ部2のうち同期移動方向と交わる方向の少なくとも2箇所に設置され、この少なくとも2箇所の温度をそれぞれ独立して調整可能な複数のヒートシンク7とを備えている。

請求項（抜粋）：

マスクと基板とを同期移動してマスクのパターンを投影光学系を介して所定面上に転写する露光装置において、前記投影光学系を構成する光学素子を保持する鏡筒と、前記鏡筒又は該鏡筒の外面に対して前記同期移動方向と交わる方向のうち少なくとも2箇所に設置され、該少なくとも2箇所の温度をそれぞれ独立して調整可能な複数の温度調整装置とを備えることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 E ,  H01L 21/30 518

Fターム (7件)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB20 ,  5F046DA13 ,  5F046DA26 ,  5F046DB02 ,  5F046DC07