特許
J-GLOBAL ID：200903037031227760
基板の洗浄方法及び基板洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-128249
公開番号（公開出願番号）：特開平5-297336
出願日： 1992年04月21日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】【目的】 液晶表示パネル等の基板として用いられる少なくとも一面に電極を有し、かつ可撓性を有する長尺基板の表面の汚染物を確実かつ効率よく除去する。【構成】 可撓性を有する長尺基板(K)をロール状に巻回して繰り出しロール(11)を形成し、この繰り出しロール(11)から基板(K)を送り出すとともに、巻き取りロール(17)に巻き取る間に、基板(K)の一端側から他端側へと連続的にブラシ洗浄(B)した後、超音波洗浄(C)を基板(K)の一端側から他端側へと連続的に行う。
請求項（抜粋）：
少なくとも一面に電極を有し、かつ可撓性を有する長尺基板をロール状に巻回して繰り出しロールを形成し、この繰り出しロールから基板を送り出して巻き取りロールに巻き取る間に、洗浄処理を基板の一端側から他端側へと連続的にブラシ洗浄した後、超音波洗浄を基板の一端側から他端側へと連続的に行うことを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (2件)：
G02F 1/13 101
, B08B 11/00
