コンビナトリアルデバイス作製装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平山一幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-213274
公開番号（公開出願番号）：特開2002-033283
出願日： 2000年07月13日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【課題】成膜した薄膜を大気に晒すことなく、多種類の薄膜を、その機能に応じた形状に形成しつつ積層してデバイスを作製できるコンビナトリアルデバイス作製装置を提供する。【解決手段】ドープドアモルファスシリコン膜、窒化シリコン絶縁膜を形成するCVD装置1と、ノンドープアモルファスシリコン膜を形成するCVD装置3とパルスレーザ堆積装置5と、ホルダ位置調節装置6,7と、搬送マニピュレータ8,9と、基板ホルダ及び複数のマスクホルダを備え、ホルダ位置調節装置6,7と搬送マニピュレータ8,9によって、基板ホルダと複数のマスクホルダを位置合わせして組み合わせ、この組み合わせたホルダを搬送マニピュレータ8,9によって搬送し、マスクホルダにセットした各種のマスクによって各種の薄膜をマスク成膜して積層し、デバイスを作製する。

請求項（抜粋）：

相互に接続した複数の成膜装置と、基板を保持する基板ホルダと、マスクを保持し、上記基板ホルダと互いに位置合わせして組み合わされる複数のマスクホルダと、上記基板ホルダまたはマスクホルダを保持し、かつ、この基板ホルダまたはマスクホルダの位置を調整するホルダ位置調整装置と、上記基板ホルダまたはマスクホルダを保持し、かつ、この基板ホルダまたはマスクホルダを上記成膜装置間で搬送する搬送マニピュレータとを備え、上記基板ホルダとマスクホルダを、上記ホルダ位置調整装置と上記搬送マニピュレータとで位置合わせして組み合わせ、上記搬送マニピュレータで搬送し、上記成膜装置で上記基板にマスク成膜し、上記操作を繰り返すことによって、成膜した薄膜表面を大気に晒すことなく多種類の薄膜をその機能に応じた形状に形成しつつ積層してデバイスを作製することを特徴とする、コンビナトリアルデバイス作製装置。

IPC (10件)：

H01L 21/205 , C23C 14/28 , C23C 14/50 , C23C 14/56 , C23C 16/02 ZCC , C23C 16/44 , C23C 16/458 , H01L 21/203 , H01L 21/31 , H01L 21/68

FI (10件)：

H01L 21/205 , C23C 14/28 , C23C 14/50 F , C23C 14/56 J , C23C 16/02 ZCC , C23C 16/44 F , C23C 16/458 , H01L 21/203 Z , H01L 21/31 C , H01L 21/68 A

Fターム (67件)：

4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA01 , 4K029BB02 , 4K029BB03 , 4K029BC03 , 4K029BD02 , 4K029DB20 , 4K029HA02 , 4K029HA03 , 4K029HA04 , 4K029JA02 , 4K029JA05 , 4K029KA01 , 4K029KA09 , 4K030AA06 , 4K030AA07 , 4K030AA08 , 4K030AA13 , 4K030AA20 , 4K030BA29 , 4K030BA30 , 4K030BA40 , 4K030BB12 , 4K030BB14 , 4K030CA06 , 4K030CA17 , 4K030DA05 , 4K030FA01 , 4K030FA03 , 4K030GA07 , 4K030GA08 , 4K030GA12 , 4K030HA02 , 4K030HA03 , 4K030KA22 , 4K030LA04 , 5F031CA02 , 5F031CA07 , 5F031DA13 , 5F031FA01 , 5F031FA04 , 5F045AA08 , 5F045AB04 , 5F045AB33 , 5F045AC01 , 5F045AC19 , 5F045AD06 , 5F045AE19 , 5F045AF06 , 5F045AF07 , 5F045BB08 , 5F045CA13 , 5F045DA52 , 5F045DQ10 , 5F045DQ17 , 5F045EH13 , 5F045EN05 , 5F045EN10 , 5F045HA24 , 5F103AA01 , 5F103DD28 , 5F103HH04 , 5F103LL04 , 5F103PP18 , 5F103RR01 , 5F103RR08

引用特許：

出願人引用 (6件)

真空蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-274738 出願人：日本電気株式会社
特開平2-173261
薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-143036 出願人：三井東圧化学株式会社

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審査官引用 (4件)

真空蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-274738 出願人：日本電気株式会社
特開平2-173261
特開平2-173261

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