特許

J-GLOBAL ID：200903037041757341

基板洗浄装置の運転方法

発明者： 丹生谷 貴行 ,  後藤 日出人 ,  森 宏幸
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-342462
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142448
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：

【要約】【課題】 複数の処理容器を用いて複数の処理工程を実行するときに、高いスループットを良好に確保することができる基板洗浄装置の運転方法を提供する。【解決手段】 枚葉洗浄装置は、洗浄ユニットより供給される洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程とリンス液を用いて洗浄液をリンスするリンス工程と乾燥用流体を用いて乾燥する乾燥工程とを有し、これらの各工程を順次実施して処理容器に収容した1枚の基板を洗浄処理する。このとき、洗浄液タンク、ポンプおよびフィルタを1組有する洗浄ユニットならびに2以上の該処理容器を用い、各処理装置に配置された基板に対して各工程を別々に割り当てて、各工程を並列実施する。

請求項（抜粋）：

複数の処理工程で使用される複数の処理用流体を供給する洗浄ユニットを複数用い、複数の処理容器で基板を洗浄処理するための一連の処理工程を並列実行するとともに、該複数の処理容器は少なくとも1つの洗浄ユニットを共用する基板洗浄装置の運転方法であって、該複数の処理容器の全てについて同時に該少なくとも1つの洗浄ユニットを用いて処理工程を実行しないように、該複数の処理容器における該複数の処理工程の実行時間を割り振ることを特徴とする基板洗浄装置の運転方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 651 ,  B08B 3/04 ,  G05B 19/418

FI (7件)：

H01L 21/304 648 H ,  H01L 21/304 648 F ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/304 651 H ,  H01L 21/304 651 L ,  B08B 3/04 B ,  G05B 19/418 Z

Fターム (14件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB03 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3C100AA05 ,  3C100AA29 ,  3C100AA38 ,  3C100BB33 ,  3C100EE06