特許

J-GLOBAL ID：200903037055986424

二次イオン飛行時間型質量分析計の操作方法

発明者： ニーフイス,エーヴァルト
出願人/特許権者： イーオン-トーフ・ゲー・エム・ベー・ハー
代理人 (1件)： 北村 修
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-528697
公開番号（公開出願番号）：特表平9-500486
出願日： 1995年05月10日
公開日（公表日）： 1997年01月14日
要約：

【要約】本発明は、1.質量スペクトル分析のための二次イオン飛行時間型質量分析計の操作方法に関し、多くのミクロ構造化された質量領域がかなり大きな間隔で分離して生じ、以下のステップを備える。即ち、a)試料表面に規則的な間隔tz(サイクル時間)で連続的に一次イオンパルスが放射され、b)一次イオンにより試料表面から飛び出す種々の質量mの二次イオンが等しいエネルギーで加速され、c)質量に依存する飛行時間tは飛程1にわたって測定され、そこから質量が決定されること。分解能とS/N比の向上のために、この方法は、d)各一次イオンパルスは多数のサブパルスから構成されており、e)各サブパルスの幅は狭く、ミクロ構造化された質量領域の分解を可能とし、f)サブパルスの間隔tBはミクロ構造化された質量領域の幅より大きく、g)サブパルスの数nはn・tBがミクロ構造化された質量領域間の間隔より小さくなるように選択され、h)サブパルスに関する各ミクロ構造化された質量領域のn個のスペクトルが加算される、ことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

質量スペクトルの分析のための二次イオン飛行時間型質量分析計の操作方法であって、多くのミクロ構造化された質量領域がかなり大きな間隔で分離して生じるものであり、 a)試料表面に規則的な間隔tz(サイクル時間)で連続的に一次イオンパルスが放射され、 b)一次イオンにより試料表面から飛び出す種々の質量mの二次イオンが等しいエネルギーで加速され、 c)質量に依存する飛行時間tは飛程1にわたって測定され、そこから質量が決定される、 の以上のステップを備えた方法において、 d)各一次イオンパルスは多数のサブパルスから構成されており、 e)各サブパルスの幅は狭く、ミクロ構造化された質量領域の分解を可能とし、 f)サブパルスの間隔tBはミクロ構造化された質量領域の幅より大きく、 g)サブパルスの数nはn・tBがミクロ構造化された質量領域間の間隔より小さくなるように選択され、 h)サブパルスに関する各ミクロ構造化された質量領域のn個のスペクトルが加算される、 ことを特徴とする方法。

IPC (3件)：

H01J 49/40 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/252

FI (3件)：

H01J 49/40 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/252 B