特許

J-GLOBAL ID：200903037057884688

半導体製造装置の処理システム

発明者： 鈴木 道朗
出願人/特許権者： 宮城沖電気株式会社 ,  沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-045024
公開番号（公開出願番号）：特開平5-094931
出願日： 1991年03月11日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、半導体装置の製造における露光工程に使用される半導体製造装置の処理システムに関するものであり、レチクルの使用状況により、処理可能なロット群の中から最適なロットを選択出来るようにして、レチクルの着脱処理工数を低減することを目的とするものである。【構成】 前記の目的のために本発明では、その処理システムのホストコンピュータに、レチクルの位置データと許容処理数とレチクル洗浄後の許容放置時間とを管理するテーブルを設け、処理可能なロット群の中から最適なロットを選択出来るようにした。

請求項（抜粋）：

半導体装置製造における露光工程に使用される半導体製造装置の処理手段として、(a)レチクルの位置データと許容処理数とレチクル洗浄後の許容放置時間を記憶、更新する手段と、(b)前記それぞれの逐次データを更新する手段とを設け、(c)かつロットを選択する際に前記レチクルの各データを参照し、使用可否の判断を行ない最適なロットを選択する手段とを備えたことを特徴とする半導体製造装置の処理システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 301 G ,  H01L 21/30 301 Z