特許

J-GLOBAL ID：200903037080977901

ヘアトリートメント

発明者： 太田 敏夫 ,  野口 真一 ,  大石 康英 ,  渡辺 克寛
出願人/特許権者： 山栄化学株式会社
代理人 (1件)： 田中 宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-079667
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273026
出願日： 1999年03月24日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【目的】シャンプー後の脱脂された状態の毛髪にオイル分を与えたり、薬液を用いて行なうパーマネント処理やヘアーブリーチあるいはヘアダイ等の後の損傷した毛髪を保護し損傷の進行を防止し、毛髪を柔軟化し、更に、滑らかさ、しっとり感あるいはサラサラ感を与えるためのヘアートリートメントを提供する。【構成】油性原料およびカチオン系界面活性剤を主成分としてなるヘアトリートメントにおいて、カチオン系界面活性剤が、一般式(1)【化1】(式中、R1は炭素数14〜22のアルキル基またはヒドロキシアルキル基を示し、Xはハロゲン原子または炭素数1〜2のアルキル硫酸基を示し、m+nは2〜5である)で現わされる第4級アンモニウム塩を1種またはそれ以上、及び、一般式(2)【化2】(式中、R2およびR3は炭素数8〜18のアルキル基またはヒドロキシアルキル基を示し、Yはハロゲン原子または炭素数1〜2のアルキル硫酸基を示す)で現わされる第4級アンモニウム塩を1種またはそれ以上を含有するものであることを特徴とするヘアトリートメントである。

請求項（抜粋）：

油性原料およびカチオン系界面活性剤を主成分としてなるヘアトリートメントにおいて、カチオン系界面活性剤が、一般式(1)【化1】(式中、R1は炭素数14〜22のアルキル基またはヒドロキシアルキル基を示し、Xはハロゲン原子または炭素数1〜2のアルキル硫酸基を示し、m+nは2〜5である)で現わされる第4級アンモニウム塩を1種またはそれ以上、及び、一般式(2)【化2】(式中、R2およびR3は炭素数8〜18のアルキル基またはヒドロキシアルキル基を示し、Yはハロゲン原子または炭素数1〜2のアルキル硫酸基を示す)で現わされる第4級アンモニウム塩を1種またはそれ以上を含有するものであることを特徴とするヘアトリートメント。

IPC (4件)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/09 ,  C11D 1/62

FI (4件)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/09 ,  C11D 1/62

Fターム (24件)：

4C083AC071 ,  4C083AC072 ,  4C083AC241 ,  4C083AC351 ,  4C083AC352 ,  4C083AC712 ,  4C083AD131 ,  4C083AD132 ,  4C083BB06 ,  4C083BB11 ,  4C083CC33 ,  4C083DD31 ,  4C083EE28 ,  4C083EE29 ,  4H003AE05 ,  4H003AE06 ,  4H003BA12 ,  4H003DA02 ,  4H003EB02 ,  4H003EB04 ,  4H003EB07 ,  4H003EB09 ,  4H003ED02 ,  4H003FA21

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-058908
  
• 毛髪化粧料組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-052848   出願人：ヘンケルジャパン株式会社
• カチオン界面活性剤含有毛髪化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-254939   出願人：サンスター株式会社