洗浄装置における循環洗浄水の浄化装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-191524
公開番号（公開出願番号）：特開2003-145167
出願日： 2002年06月28日
公開日（公表日）： 2003年05月20日
要約：

【要約】【課題】対象物に向けて噴霧された接着剤等の塗布剤を水洗ブースを用いて循環する洗浄水により収塵し、貯水タンクへと捕集する洗浄装置において、洗浄水中の塗布剤の濃度が高まってその固形分が各部に付着したり配管系等に詰りを生じて洗浄効果が低下する問題を解決する。【解決手段】貯水タンク18内に収容した洗浄水を循環使用し、対象物10に対し塗布剤を塗布処理するに際し対象物10に付着しなかった余剰の塗布剤を洗浄水で洗浄し、貯水タンク18内に回収する洗浄装置の洗浄水を浄化する装置であって、循環用の配管22上にサイクロン式分離機44を設けて洗浄水中に含まれる塗布剤を分離し、きれいにした水を送り出す。また塗布剤を多く含んだ汚水を沈殿分離槽66に流入させ、上澄み水を貯水タンク18へと返送するようになす。

請求項（抜粋）：

貯水タンク内に収容した洗浄水を循環使用し、対象物に対し塗布剤を塗布処理するに際し該対象物に付着しなかった余剰の塗布剤を該洗浄水で洗浄して該貯水タンク内に回収するようになした洗浄装置の該洗浄水を浄化する装置であって、前記洗浄水の循環用の管路上に遠心分離機を設けて該洗浄水に含まれる塗布剤を該遠心分離機により遠心分離し、浄化後の洗浄水を該管路を通じて送り出すようになすとともに、該塗布剤を多く含んだ汚水を沈殿分離槽に流入させて沈殿分離し、上澄み水を前記洗浄水の循環経路上に戻すようになしたことを特徴とする洗浄装置における循環洗浄水の浄化装置。

IPC (8件)：

C02F 1/52 , B01D 21/00 , B01D 21/02 , B01D 21/24 , B01D 21/26 , B01D 47/06 , B04C 5/04 , B05B 15/04 104

FI (9件)：

C02F 1/52 G , B01D 21/00 B , B01D 21/02 N , B01D 21/24 F , B01D 21/24 Q , B01D 21/26 , B01D 47/06 Z , B04C 5/04 , B05B 15/04 104

Fターム (27件)：

4D015BA19 , 4D015BA23 , 4D015BA24 , 4D015BA28 , 4D015BB01 , 4D015CA09 , 4D015EA32 , 4D015EA33 , 4D015FA01 , 4D015FA19 , 4D032AB02 , 4D053AA03 , 4D053AB04 , 4D053BA01 , 4D053BB02 , 4D053BC01 , 4D053BD04 , 4D053CA02 , 4D053DA10 , 4D073AA01 , 4D073AA09 , 4D073BB03 , 4D073DC04 , 4D073DC06 , 4D073DC11 , 4D073DC25 , 4D073DC30

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