特許

J-GLOBAL ID：200903037088349888

ガス処理装置及びガス処理方法

発明者： 野田 晃 ,  道場 研二
出願人/特許権者： 神鋼パンテツク株式会社
代理人 (1件)： 藤本 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-232187
公開番号（公開出願番号）：特開平10-076134
出願日： 1996年09月02日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：

【要約】【課題】 異なる2種類以上の有害成分を含む原ガスを処理する場合や高濃度の原ガスを処理する場合にも、確実に吸着剤の吸着能力を維持し、経済的にガス処理を行うことのできるガス処理装置及びガス処理方法を提供することを課題とする。【解決手段】 原ガスが導入され、吸着剤を流動しながら該原ガスと接触させて原ガス中の成分を吸着剤に吸着させる吸着部4 と、該吸着部4 において吸着剤と接触されたガスを排出する排出口6 を有する吸着塔1 と、該吸着塔1 から移送路7 を通って移送された原ガスと接触された吸着剤を再生する脱着塔2 を有するガス処理装置本体10を具備するガス処理装置において、前記吸着部4 が、異なる吸着能力を有する吸着剤がそれぞれ流動される2以上の吸着部からなり、前記脱着塔2 が各吸着部から移送された吸着剤をそれぞれ再生すべく2以上の脱着部が設けられ、且つ前記原ガスが各吸着部を順次通過すべく設けられたことを解決手段として有する。

請求項（抜粋）：

原ガスが導入され、吸着剤を流動しながら該原ガスと接触させて原ガス中の成分を吸着剤に吸着させる吸着部(4) と、該吸着部(4) において吸着剤と接触されたガスを排出する排出口(6) を有する吸着塔(1) と、該吸着塔(1) から移送路(7) を通って移送された原ガスと接触された吸着剤を再生する脱着塔(2) を有するガス処理装置本体(10)を具備するガス処理装置において、前記吸着部(4) が、異なる吸着能力を有する吸着剤がそれぞれ流動される2以上の吸着部からなり、前記脱着塔(2) が各吸着部から移送された吸着剤をそれぞれ再生すべく2以上の脱着部が設けられ、且つ前記原ガスが各吸着部を順次通過すべく設けられたことを特徴とするガス処理装置。

IPC (3件)：

B01D 53/44 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/12

FI (2件)：

B01D 53/34 117 A ,  B01D 53/12