特許

J-GLOBAL ID：200903037101032210

2流体ジェットノズル及び基板洗浄装置

発明者： 永田 広 ,  篠崎 賢哉
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-345786
公開番号（公開出願番号）：特開2003-145064
出願日： 2001年11月12日
公開日（公表日）： 2003年05月20日
要約：

【要約】【課題】 機構・取付の簡易化、省スペース化、使用用力の節減および洗浄品質の向上を図ること。【解決手段】 このノズル134は、搬送方向と直交する水平方向(横方向)において少なくとも基板の一端から他端までカバーできる長さに亘って延在する長尺状に横長のノズル本体160を有している。このノズル本体160の先端部にはノズル長手方向に一端から他端まで連続的に延在するスリット状のノズル口または噴出口162が形成されている。ノズル本体160の内部にはノズル長手方向に一端部から他端部まで延在するガスバッファ室164,液体バッファ166、霧化部172、ミスト通路163が設けられている。ガスバッファ室164はガス通路170を介して、液体バッファ166は液体通路176を介してそれぞれ霧化部172に連通する。

請求項（抜粋）：

長尺状に横長のノズル本体と、前記ノズル本体の先端部にてノズル長手方向に延在するスリット状の噴出口と、前記ノズル本体内で前記噴出口の内奥と連通する霧化部と、前記ノズル本体内でノズル長手方向に延在し、加圧された気体を導入していったん蓄積してから第1の通路を介して前記霧化部へ送る第1のバッファ室と、前記ノズル本体内でノズル長手方向に延在し、加圧された洗浄液を導入していったん蓄積してから第2の通路を介して前記霧化部へ送る第2のバッファ室とを有し、前記霧化部で前記気体と前記洗浄液とを混合して前記洗浄液を霧化し、前記洗浄液のミストを前記噴出口より噴出する2流体ジェットノズル。

IPC (7件)：

B08B 3/02 ,  B05B 1/04 ,  B05B 7/04 ,  B05C 11/10 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304

FI (7件)：

B08B 3/02 C ,  B05B 1/04 ,  B05B 7/04 ,  B05C 11/10 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/304 643 C

Fターム (37件)：

2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  3B201AA01 ,  3B201AB14 ,  3B201BA02 ,  3B201BA03 ,  3B201BB22 ,  3B201BB38 ,  3B201BB82 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB99 ,  3B201BC01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  4F033AA04 ,  4F033BA01 ,  4F033BA02 ,  4F033BA04 ,  4F033CA02 ,  4F033DA01 ,  4F033EA01 ,  4F033NA01 ,  4F033QA09 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB15X ,  4F033QC02 ,  4F033QD04 ,  4F033QD14 ,  4F033QE08 ,  4F033QE21 ,  4F042AA10 ,  4F042DA01