特許

J-GLOBAL ID：200903037121005499

汚泥濃縮装置

発明者： 宮坂 邦夫 ,  落合 一成
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 猪熊 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-169504
公開番号（公開出願番号）：特開平11-000699
出願日： 1997年06月10日
公開日（公表日）： 1999年01月06日
要約：

【要約】【課題】有機成分を多く含む汚水の汚泥濃縮効率を向上させると共に、大きな規模の汚泥処理施設を必要としない汚泥濃縮装置を提供する。【解決手段】沈殿槽の底部に濾過膜を配置し、汚水の一部が濾過膜を通過することにより汚水中に含まれる汚泥を分離し、汚水の汚泥濃度を濃縮する汚泥濃縮装置において、濾過膜上に磁性粒子からなる磁性粒子層を形成し、磁性粒子が濾過膜を摺擦するように磁性粒子層の上方に磁石ブレードを回転自在に設けた。

請求項（抜粋）：

濃縮槽の底部に濾過膜を配置し、汚水の一部が該濾過膜を通過することにより該汚水中に含まれる汚泥を分離し、該汚水の汚泥濃度を濃縮する汚泥濃縮装置において、前記濾過膜上に磁性粒子からなる磁性粒子層を形成し、該磁性粒子が前記濾過膜を摺擦するように前記磁性粒子層の上方に磁石ブレードを回転自在に設けたことを特徴とする汚泥濃縮装置。

IPC (3件)：

C02F 11/12 ZAB ,  B01D 65/04 ,  C02F 1/44

FI (3件)：

C02F 11/12 ZAB E ,  B01D 65/04 ,  C02F 1/44 F