特許
J-GLOBAL ID:200903037123233405

膜形成用組成物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 白井 重隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-116286
公開番号(公開出願番号):特開2000-303023
出願日: 1999年04月23日
公開日(公表日): 2000年10月31日
要約:
【要約】【課題】 塗布膜の均一性、誘電率特性、耐クラック性および低吸湿性などのバランスに優れた膜形成用組成物の製造方法を提供すること。【解決手段】 溶媒中、R1 Si(OR2 )3 (式中、R1 は1価の有機基を示し、R2 は同一または異なり、アルキル基、アリール基またはアシル基を示す)で表されるオルガノシラン(I)、およびSi(OR2 )4 で表されるオルガノシラン(II) との加水分解縮合物の存在下に、上記オルガノシラン(I)をさらに添加して加水分解し、縮合する。
請求項(抜粋):
溶媒中、下記一般式(I)で表されるオルガノシラン(I)と下記一般式(II) で表されるオルガノシラン(II) との加水分解縮合物の存在下に、下記一般式(I)で表されるオルガノシラン(I)をさらに加えて加水分解し、縮合することを特徴とする膜形成用組成物の製造方法。R1 Si(OR2 )3 ・・・・・(I)(式中、R1 は1価の有機基を示し、R2 は同一または異なり、アルキル基、アリール基またはアシル基を示す。)Si(OR2 )4 ・・・・・(II)(式中、R2 は同一または異なり、アルキル基、アリール基またはアシル基を示す。)
IPC (5件):
C09D183/04 ,  C08G 77/44 ,  C08L 83/04 ,  H01B 3/00 ,  H01L 21/316
FI (5件):
C09D183/04 ,  C08G 77/44 ,  C08L 83/04 ,  H01B 3/00 F ,  H01L 21/316 G
Fターム (52件):
4J002CP031 ,  4J002FD010 ,  4J002FD030 ,  4J002FD310 ,  4J002GQ01 ,  4J002HA08 ,  4J035AA03 ,  4J035BA13 ,  4J035CA04N ,  4J035CA041 ,  4J035EA01 ,  4J035EB02 ,  4J035GA01 ,  4J035GB02 ,  4J035GB08 ,  4J035LA05 ,  4J035LA07 ,  4J035LB20 ,  4J038DB171 ,  4J038DG291 ,  4J038DL051 ,  4J038GA01 ,  4J038GA02 ,  4J038GA03 ,  4J038GA06 ,  4J038GA07 ,  4J038GA08 ,  4J038GA09 ,  4J038GA11 ,  4J038GA12 ,  4J038GA13 ,  4J038NA01 ,  4J038NA07 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12 ,  4J038NA21 ,  5F058AA02 ,  5F058AA04 ,  5F058AB04 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AH02 ,  5G303AA07 ,  5G303AB06 ,  5G303AB20 ,  5G303BA03 ,  5G303BA07 ,  5G303CA01 ,  5G303CA09 ,  5G303CB30 ,  5G303DA01 ,  5G303DA06
引用特許:
審査官引用 (13件)
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