特許
J-GLOBAL ID：200903037131080960
サブ開口アドレス指定光ビーム・ステアリング装置におけるビーム・ステアリング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-043413
公開番号（公開出願番号）：特開平5-066427
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】【目的】 光学フェーズド・アレイ・ビーム・ステアリング装置の動作に必要な非常に多数の高密度の移相器を電気的にアドレス指定する方法を提供する。【構成】 並列動作する複数の同一サブアレイ38に分割された多数の移相器を含むサブアレイ・アドレス指定ビーム・ステアリング装置を用い、各サブアレイを複数の周期に分割し、各周期に階段状波形電圧26aを印加して所望の方向にビームを指向させる。
請求項（抜粋）：
並列動作される複数の同一サブアレイに分割された多数の移相器を含むサブアレイ・アドレス指定ビーム・ステアリング装置を用いる入射電磁ビームをステアリングする方法において、a.各サブアレイを複数の周期に等しく細分割し、b.各周期の移相器に与えられる電圧の階段波形を結果として生じるように各サブアレイの前記移相器に電圧を印加する、ステップを含む方法。
IPC (3件)：
G02F 1/29
, G01S 7/48
, G01S 7/50
