特許
J-GLOBAL ID：200903037151968100
マスク成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-005925
公開番号（公開出願番号）：特開平6-216124
出願日： 1993年01月18日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：
【要約】【目的】 ばね性を有する薄板状マスクを用いてパターンニングすることにより、ケミカルエッチングを必要とせず、工程および設備も簡素となり、製造コストの上昇を招くことのないパターン成膜装置を提供する。【構成】 パレット11に形成した開口12の周縁部14に、ばね性を有する薄板状のマスク部材15を取り付ける。開口12を覆うように取り付けた基板13に対して、マスク部材15を介して所定のパターンを形成する。従来の金属薄膜形成後にケミカルエッチングする場合に比べ工程が少なくなり、設備も少なくてよく、製造コストを低減できる。マスク部材15のパターン形成に影響のない部分に、平面方向の幅を狭くした歪吸収部15d を設けたので、マスク部材15に生じる歪みを確実に吸収し、所定のパターンを形成できる。
請求項（抜粋）：
成膜用の開口を有し、この開口を覆うように基板が取り付けられ、この開口を介して前記基板に対する成膜が行なわれるパレットと、このパレットの前記開口の周縁部に、前記基板との間に介在しかつこの基板の対向面に対してばね力を生じる状態で設けられ、一側辺が前記開口内にて所定の成膜パターンを形成する薄板状のマスク部材とを備え、前記マスク部材の前記パターン形成に影響のない部分の平面方向の幅を狭くした歪吸収部を有したことを特徴とするマスク成膜装置。
IPC (2件)：
H01L 21/32
, B05B 15/04 102
