高周波プラズマ応用装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井島藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-040055
公開番号（公開出願番号）：特開平8-236294
出願日： 1995年02月28日
公開日（公表日）： 1996年09月13日
要約：

【要約】【目的】大きな電極を用いても、簡単な構成でプラズマの分布を均一にすることができる高周波プラズマ応用装置を実現する。【構成】高周波発振器1からの高周波電力は、第1〜3の高周波増幅器6,8,10によってそれぞれ増幅され、マッチングボックス11,13,15によってインピーダンスマッチングされた後、それぞれチャンバー4内の電極5に印加され、プラズマの形成とこれに伴うエッチング動作が実行される。すなわち、大きな面積の電極5の異なった箇所に高周波電力を供給するように構成したので、電極5の全域における電圧の差を著しく小さくすることができる。また、電極5に印加される複数の高周波電力の位相は揃えられる。

請求項（抜粋）：

高周波発振器と、高周波発振器からの高周波電力をそれぞれ独立して増幅する複数の増幅器と、プラズマが形成される真空チャンバーの中に配置され、複数の増幅された高周波電力が供給される単一の電極と、単一の電極に供給される複数の高周波電力の位相を揃えるための手段とを備えた高周波プラズマ応用装置。

IPC (3件)：

H05H 1/46 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (3件)：

H05H 1/46 A , H01L 21/205 , H01L 21/302 C

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