特許

J-GLOBAL ID：200903037191798720

汚染物質の処理方法及び処理装置

発明者： カピラ ムケッシュ ,  小野 紘一 ,  ベノワ ジャック
出願人/特許権者： サンキット環境開発株式会社
代理人 (1件)： 前田 弘 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-027160
公開番号（公開出願番号）：特開2000-225387
出願日： 1999年02月04日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 不活性の基質材から汚染物質を分離する際に、処理すべき基質材に対する熱伝達を最大限にして処理時間を最小にし、さらに処理チャンバーの熱膨張の影響を少なくする。【解決手段】 基質材取り入れ口と基質材取出し口とを有する本質的に気密の処理チャンバー40を吊り下げ式に構成し、該チャンバー40に、基質材を処理するための2以上の溝部48a,48bを設ける。そして、チャンバー40を間接的に加熱するヒータと、基質材を基質材取り入れ口から基質材取出し口へチャンバーの2以上の溝部48a,48bを通じて移動させるためのオーガー52a,52bと、汚染物質を除去して復元する処理のためにチャンバー40から蒸気を排出するための蒸気凝縮処理システムとを設ける。

請求項（抜粋）：

不活性の基質材から汚染物質を分離する装置であって、基質材取り入れ口と基質材取出し口とを有する本質的に気密で吊り下げられた処理チャンバーを有し、該チャンバーは、基質材を処理するための2以上の溝部を有し、チャンバーを間接的に加熱する手段と、基質材を基質材取り入れ口から基質材取出し口へチャンバーの2以上の溝部を通じて移動させる手段と、汚染物質を除去して復元する処理のためにチャンバーから蒸気を排出する蒸気凝縮処理システムと、を備えている装置。

IPC (3件)：

B09C 1/06 ,  B01J 19/30 ,  C02F 11/12 ZAB

FI (3件)：

B09B 3/00 303 P ,  B01J 19/30 ,  C02F 11/12 ZAB A

Fターム (30件)：

4D004AA41 ,  4D004AB03 ,  4D004AB05 ,  4D004AB07 ,  4D004CA27 ,  4D004CA32 ,  4D004CB04 ,  4D004CB24 ,  4D004CB28 ,  4D004CB32 ,  4D004CB34 ,  4D004CB42 ,  4D004CB43 ,  4D059AA12 ,  4D059AA18 ,  4D059BD11 ,  4D059BD21 ,  4D059BJ02 ,  4D059CA14 ,  4D059CB06 ,  4D059CB07 ,  4G075AA37 ,  4G075BB02 ,  4G075CA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EC13 ,  4G075ED03 ,  4G075ED09