特許

J-GLOBAL ID：200903037196857431

テストパターンが形成されたレチクル

発明者： 宮井 恒夫 ,  今井 裕二
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-055011
公開番号（公開出願番号）：特開平10-254123
出願日： 1997年03月10日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：

【要約】【課題】ベストフォーカス位置を短時間にバラツキなく求めることができるレチクルおよび焦点位置の検出方法を提供する。【解決手段】レチクルRには、レチクルステージRSに載置されたときに感応基板Wとの距離がそれぞれ異なるように階段状に複数の階段面52A〜52Gを形成し、その階段面52A〜52Gのそれぞれにテストパターン53を構成するフォーカスマーク53A〜53Gを形成する。レチクルTRを感応基板W上に一括露光し、感応基板Wに露光されたテストパターン53Wを現像し、現像されたテストパターン53Wを計測し、計測結果に基づいて、テストパターン53Wが形成されているどのマーク形成領域52A〜52Gが最適な焦点位置であるかを判定する。

請求項（抜粋）：

レチクルステージに載置され、感応基板上にテストパターンを投影露光して露光装置の焦点位置を検出することができるレチクルにおいて、レチクルステージに載置されたときに前記感応基板との距離がそれぞれ異なるように階段状に複数の階段面が形成され、その階段面のそれぞれに前記テストパターンを構成するフォーカスマークが形成されていることを特徴とするレチクル。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 N ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/30 522 Z ,  H01L 21/30 525 D