特許
J-GLOBAL ID：200903037198836547
真空蒸着装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 均
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-038501
公開番号（公開出願番号）：特開平10-219436
出願日： 1997年02月06日
公開日（公表日）： 1998年08月18日
要約：
【要約】【課題】 真空容器内にて蒸着材料を蒸発させて被蒸着物の表面に蒸着させる真空蒸着装置において、簡単な装置構成で厚い蒸着膜を形成することができ、しかも凹凸の大きい被蒸着面に対しても屈折率の均一な蒸着膜を形成できるようにする。【解決手段】 真空容器1内の上部に配置した蒸着源2内の蒸着材料6を電子銃3より発する電子ビーム7で加熱、蒸発させ、蒸発した蒸着材料粒子を真空容器1内の下部に設置した基板4の上面4aに付着させることによって蒸着膜を形成する。蒸着膜がその自重により基板から剥離するというような不具合が生じないため、基板4に対して密着性の悪い蒸着材料を使用する場合でも、所望の厚さの蒸着膜を容易に形成できる。また、蒸発の際にランダムな方向に飛散する蒸着材料粒子を、進行方向のランダム性を保った状態で基板4に衝突させるため、凹凸の大きい被蒸着面に対しても屈折率の均一な厚い蒸着膜を形成することができる。
請求項（抜粋）：
真空容器内にて蒸着材料を蒸発させて被蒸着物の表面に蒸着させる真空蒸着装置において、前記蒸着材料の蒸発源を下方に向けて設け、該蒸発源の下方に前記被蒸着物を設けたことを特徴とする真空蒸着装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/30 A
, C23C 14/24 U
