特許
J-GLOBAL ID:200903037210732833

インプリント温度や圧力を低下させるための、ナノインプリンティングリソグラフィー用ポリマー溶液

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 古谷 聡 ,  溝部 孝彦 ,  西山 清春
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-557351
公開番号(公開出願番号):特表2006-509354
出願日: 2003年11月26日
公開日(公表日): 2006年03月16日
要約:
インプリンティングによって基材(10)上に輪郭を形成する方法を提供する。当該方法は、(a)少なくとも1つのポリマーが少なくとも1つの重合性モノマー中に溶解してなるポリマー溶液を形成すること;及び(b)前記ポリマー溶液を基材(10)上に付着させて、その上に液体膜(12)を形成すること;及び次の何れか(c)モノマーの重合及び任意にポリマーの架橋により液体膜(12)を硬化させて、或るガラス転移温度(Tg)のポリマー膜(12’)を形成し、そして所望のパターン(16a)を有する型(16)でポリマー膜(12’)をインプリンティングして、対応するネガティブパターン(12a)をポリマー膜(12’)に形成すること;又は(d)型(16)を用いて液体膜(12)をインプリンティングし、それを硬化させて、ネガティブパターン(12a)を有するポリマー膜(12’)を形成すること、を包含する。インプリント温度は、Tgより10°Cほど高いか、又は膜(12)が液体膜の場合にはそれより低いことさえある。インプリント圧力(20)は100〜500psiとし得る。
請求項(抜粋):
インプリンティング用のインプリント可能なポリマー溶液であって、前記ポリマー溶液が、少なくとも1つの重合性モノマー中に溶解している少なくとも1つのポリマーを含んで成る、ポリマー溶液。
IPC (1件):
H01L 21/027
FI (1件):
H01L21/30 502D
Fターム (1件):
5F046AA28

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