特許

J-GLOBAL ID：200903037215842351

回路パターン検査装置および方法

発明者： 高藤 敦子 ,  村越 久弥 ,  金子 豊 ,  野副 真理 ,  品田 博之 ,  戸所 秀男 ,  福原 悟 ,  小瀬 洋一 ,  西山 英利
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-184519
公開番号（公開出願番号）：特開2001-357808
出願日： 2000年06月14日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【課題】 半導体装置の同一設計パターンの欠陥、異物、残渣等を電子線により検査する方法において、基板から発生した二次電子を高圧で可変なリターディング電圧条件下で高分解能なエネルギー分析を行い、良好な電位コントラストを得て高感度な検査を実現すること。【解決手段】 基板表面から発生し加速された二次電子を偏向し、光軸外に設けたエネルギーフィルタと検出器でエネルギー分析を行う。エネルギーフィルタには、高エネルギー分解能を得るためにシールド電極、二次電子の収束・発散状態調節手段、フィルタのしきい値電界分布の均一度最適化手段、通過電子の収束手段をもたせ、二次電子の状態に合わせて最適な制御を行う。【効果】 被検査試料の工程、種類に応じた所望の条件で電位コントラストを取得し、試料表面の帯電状態を正確に画像化し高感度な欠陥判定を行い、絶縁物も含めて高速、高精度な半導体ウェハの検査が可能となった。

請求項（抜粋）：

試料台と、前記試料台上に載置された基板と、前記試料台とは異なる方向に配置された電子源と、前記電子源からの電子線をオンオフさせる第1の偏向器と、前記第1の偏向器を通過した電子線の収差を補正する第2の偏向器と、前記第2の偏向器より前記試料台側に配置され電子線がその中心部を通過し電子線の光軸に対し前記基板からの2次荷電粒子を通過させる対構造の開口部を複数有するフイルタ部と、前記フイルタ部を通過した電子線を前記試料台上の基板に照射するための対物レンズと、前記基板上の所定の位置に電子線を照射するための第3の偏向器と、前記対物レンズからの電子線のエネルギーを減速する電界かつ2次荷電粒子に対し加速する電界を発生する加減速手段と、前記基板から前記加減速手段で加速された2次荷電粒子を前記フイルタの開口部の方向に導く第4の偏向器と、前記フイルタを通過した2次荷電粒子を検出する検出器と、を具備することを特徴する電子線応用装置。

IPC (5件)：

H01J 37/05 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/244 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

H01J 37/05 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/147 B ,  H01J 37/244 ,  H01L 21/66 J

Fターム (34件)：

2G001AA03 ,  2G001AA09 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001CA03 ,  2G001EA04 ,  2G001EA20 ,  2G001FA01 ,  2G001FA06 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA09 ,  2G001GA12 ,  2G001GA13 ,  2G001HA01 ,  2G001HA13 ,  2G001JA03 ,  2G001JA13 ,  2G001JA14 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA16 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DB11 ,  4M106DB21 ,  4M106DB30 ,  5C033AA02 ,  5C033AA05 ,  5C033FF03 ,  5C033NN01